日期:10-17 作者:無錫雷士- 小 + 大
硅片的清洗在半導(dǎo)體制作過程中十分重要,而磨片的清洗是所有清洗工序中最困難的。由于使用了清洗機(jī),通過物理滲透作用,使污染顆粒脫離硅片表面,再通過超聲波清洗的機(jī)械作用和化學(xué)腐蝕作用,最終去除污染顆粒,達(dá)到了清洗硅片的目的。
上一篇:全自動(dòng)超聲波清洗機(jī)光伏設(shè)備
下一篇:組合式超聲波振板清洗機(jī)
蘇ICP備11026715號(hào) | QQ:745251892 無錫雷士超聲波設(shè)備有限公司 版權(quán)所有 | 地址:無錫市北塘區(qū)惠錢路嚴(yán)家棚廠區(qū) | 電話:0510-82465315 83502189 13506196276 |
Copyright © 2025 天人文章管理系統(tǒng) 授權(quán)使用