超聲波清洗設備未來的發展趨勢

1.需求高效經濟的清洗專用設備

伴隨著超聲波清洗設備的應用范圍拓展，超聲波清洗設備面對新科技急需創新。針對新技術，新材料，新產品的涌現，設計專用超聲波清洗設備應該具有：優異的性價比，與其他清洗方式能高效組合，有一定的自動化程度。

2．發展超聲波碳氫真空清洗設備

環境保護是我國的一項基本國策，清洗行業以前所沿用的ODS有機溶劑被禁止，因此，需要研發使用非ODS溶劑的新型清洗設備。經濟環保的碳氫溶劑超聲波清洗設備凸顯其優越性能。由于碳氫溶劑閃點低，限制了其在超聲波清洗方面的作用。在引入超聲波碳氫真空清洗技術后，不僅達到了安全環保的目的，而且在真空狀態下進行超聲波碳氫清洗還強化了潔凈功能，大理發展碳氫真空清洗已成為今后環保型超聲波清洗的發展方向。

3．研發高頻超聲波清洗設備

目前工業上大量使用的為低中頻段的超聲波清洗機，也即20~50KHZ頻段，而現在急需研發0~200KHZ高頻以及兆赫級超聲波清洗設備。

兆赫級超聲波清洗技術有以下的主要優點：一是避免對器件表面清洗時帶來損傷，而是更加精準地去除附著在器件表面的亞微米級的污垢。

兆赫級超聲波清洗設備目前已經存在，產品主要來自國外，我國研制的兆赫級超聲波清洗設備還未從實驗室走向工程應用。兆赫級超聲波清洗設備主要應用在半導體生產線，用于對100~300mm硅片的清洗，既可以出去硅片表面0.15μm的顆粒，又可以組織漂洗過程中顆粒的重新附著。可見，兆赫級超聲波清洗設備已經是大規模集成電路制造生產過程中必不可少的。

4.開拓超聲波清洗特殊應用

超聲波清洗通常是對零部件的清洗，隨著工藝的不斷完善，出現了一些特殊應用，如超聲波防垢在線清洗等。超聲波防垢清洗主要是利用超聲波強聲場處理流體，使流體中成垢物質在超聲場的作用下，其物理形態和化學性能發生一系列的變化，使之分散、粉碎、松散、松脫而不易附著管、器壁形成積垢。超聲波強聲場處理流體不僅有防垢的作用，而且能加快液體表面傳熱速率，提高液體的傳熱效率，這些新應用的出現更大地發揮了超聲波清洗的功能，近年來，雷士超聲波設備廠在開拓超聲波應用新領域方面做出了極大貢獻。

5.超聲波清洗設備智能化，集成化

隨著工業產品向微型化、智能化、壽命長、高可靠性發展，在“互聯網+制造”的大變局中，超聲波清洗技術也與時俱進，在工業生產與社會生活的許多方面，都有它活躍的舞臺。將各種新型處理器逐漸應用到超聲波電源中，使整個超聲波系統具有優良穩定性、可靠性，并可集成多種功能，如頻率跟蹤、故障在線檢測、遠程控制、組網集中控制等。